賽默飛TSQ Endura三重四極桿液質聯用儀

賽默飛TSQ Endura三重四極桿液質聯用儀技術平臺上重新設計了一套從離子源到檢測器的離子光學傳輸系統，整個系統具有同類產品中高的靈敏度，*的耐用性，結合新設計的軟件操作平臺，具有的易用性。

   圖1展示的是TSQ Endura 整體內部結構圖，TSQ Endura 從離子源到傳輸部件到質量分析器和檢測器都有全新的設計，下面就這幾個關鍵部件一一介紹其*的特點：

1. 賽默飛TSQ Endura三重四極桿液質聯用儀離子源
        TSQ Endura 配置的是賽默飛新設計的的Easy Max NG 離子盒，具有加熱型HESI 源和APCI 源一體化設計，只需要更換噴針即可實現ESI 源和APCI 源的切換。Easy Max NG 源的另一個特點是集成式氣路電路設計，安裝Easy Max NG 源時即可自動完成氣路和電路的連接，不需要進行額外的操作。同時質譜系統還可自動識別源的類型，真正實現了智能化操作。
   另外，電噴霧源噴針沿用了傾斜噴霧角度設計，且前后、左右位置可調，離子傳輸通道下方的不對稱切面，使得多余的溶劑噴霧直接快速的排除到傳輸通道下方，減少離子源的維護周期，使得實際樣品分析試驗中耐受性大化。在離子源的排放端口具有恒定的氮氣氣流，去除更多溶劑蒸汽，降低基線噪音并增加系統耐用性。

2. 賽默飛TSQ Endura三重四極桿質譜儀離子傳輸部件
    在離子傳輸部件上TSQ Endura 有兩大*設計，*是RF-lens 設計，對于由離子傳輸管中輸入的大量離子具有*的傳輸效率和*的聚焦能力。同時由于RF-lens 的獨立一體化設計以及不銹鋼材質，可以簡單方便地進行拆卸和清洗；第二是彎曲的離子束傳輸組件加上中性粒子擋桿的設計，質譜離子化時會產生一些中性粒子，這些中性粒子如果進入離子通道，會造成質譜圖的噪音干擾，并且極易污染整個離子光學通道，將傳輸四極桿設計成彎曲通道，并在上方加上中性粒子阻擋桿的設計，帶電離子可以受電場影響發生偏轉通過傳輸四極桿，而中性離子不受電場影響不發生偏轉，湮滅在中性粒子阻擋桿上，避免進入四極桿質量分析器。

3. 賽默飛TSQ Endura三重四極桿質譜儀主四極桿
    主四極桿是TSQ Endura 的核心部件之一，其可以對離子進行過濾篩選和掃描，TSQ Endura上用的四極桿是賽默飛的雙曲面四極桿，具有同類產品中寬的質量范圍。另一個特性是與其它三重四極桿上所加的振幅相等的RF電壓不同，TSQ Endura四極桿上加的為不對稱RF電壓，通過施加這種不對稱的RF射頻電壓，將整個四極桿系統的離子傳輸效率極大提高。

4. 賽默飛TSQ Endura三重四極桿質譜儀主動碰撞池Q2

    離子通過*個四極桿后，進入到碰撞池Q2，Q2的主要作用是將離子進行CID裂解，并高效傳輸到第三個四極桿進行子離子的選擇掃描。TSQ Endura 主動碰撞池Q2采用了彎曲碰撞池設計，并且在軸向有DC 電場，可以對離子進行分段加速，使得碎片離子在Q2中不但拐彎而且被加速，配合更高壓力的Ar做碰撞氣，可以獲得更加豐富、靈敏的二級離子碎片。

5. 賽默飛TSQ Endura三重四極桿質譜儀雙模式離散打拿級檢測器
    TSQ Endura 的檢測器為雙模式離散打拿級檢測器，消除噪音，提高靈敏度。雙模式檢測器可對離子流進行自動智能識別，進行不同模式間的切換和信號擬合，從而實現超高靈敏度和超寬線性動態范圍。